熱絲HFCVD金剛石沉積裝置

微熱絲化學(xué)氣相沉積(HOT FILAMENT CHEMICAL，VAPOR DEPOSITION，HFCVD)技術(shù)是金剛石薄膜沉積的常用技術(shù)之一，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、操作便利、成本較低、適用于大面積、復(fù)雜形狀刀具金剛石涂層沉積等優(yōu)點(diǎn)。

關(guān)鍵詞：標(biāo)準(zhǔn)漏孔 | MPCVD | 電容薄膜規(guī)真空計(jì) | 高低真空校準(zhǔn)裝置 | 氦漏孔校準(zhǔn)裝置

分類：

熱絲HFCVD金剛石沉積裝置

電話：

021-59718185

在線詢價(jià)

相關(guān)產(chǎn)品

產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品介紹
微熱絲化學(xué)氣相沉積(HOT FILAMENT CHEMICAL，VAPOR DEPOSITION，HFCVD)技術(shù)是金剛石薄膜沉積的常用技術(shù)之一，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、操作便利、成本較低、適用于大面積、復(fù)雜形狀刀具金剛石涂層沉積等優(yōu)點(diǎn)。本公司設(shè)計(jì)制造的HFCVD設(shè)備是用以在硬質(zhì)合金刀具基體沉積金剛石薄膜的專用設(shè)備該設(shè)備具備手動(dòng)/自動(dòng)兩種控制功能，通過(guò)人機(jī)界面操作，能滿足各種復(fù)雜的沉積金剛石涂層工藝的要求。

技術(shù)參數(shù)

HF350		HF450		HF550
反應(yīng)腔尺寸	Ф350×420mm	反應(yīng)腔尺寸	Ф450×450mm	反應(yīng)腔尺寸	Ф550×550mm
反應(yīng)腔升降行程	350mm	反應(yīng)腔升降行程	350mm	反應(yīng)腔升降行程	350mm
工作臺(tái)尺寸	200x100x80mm	工作臺(tái)尺寸	220×220mm	工作臺(tái)尺寸	φ300mm 300×300mm
工作臺(tái)升降行程	£90 mm	工作臺(tái)升降行程	£90 mm	工作臺(tái)升降行程	£90 mm
工作氣壓調(diào)節(jié)范圍	1000-10000 Pa (±5%)	工作氣壓調(diào)節(jié)范圍	1000-10000 Pa (±5%)	工作氣壓調(diào)節(jié)范圍	1000-10000 Pa (±5%)
反應(yīng)腔極限真空度	≤3 Pa	反應(yīng)腔極限真空度	≤3 Pa	反應(yīng)腔極限真空度	≤3 Pa
反應(yīng)腔保壓能力	≤50 Pa/hrs	反應(yīng)腔保壓能力	≤50 Pa/hrs	反應(yīng)腔保壓能力	≤50 Pa/hrs
四路質(zhì)量流量計(jì)配氣	氫氣、甲烷、氮?dú)狻鍤?/p>	四路質(zhì)量流量計(jì)配氣	氫氣、甲烷、氮?dú)狻鍤?/p>	四路質(zhì)量流量計(jì)配氣	氫氣、甲烷、氮?dú)狻鍤?/p>
熱絲加熱功率	10 kW	熱絲加熱功率	20 kW	熱絲加熱功率	30 kW
設(shè)備總功率	15 kW	設(shè)備總功率	25 kW	設(shè)備總功率	36 kW
直流偏壓（需選配）	0-100 V (可定制）	直流偏壓（需選配）	0-100 V (可定制）	直流偏壓（需選配）	0-100 V (可定制）
直流偏流（需選配）	0-5A (可定制）	直流偏流（需選配）	0-5A (可定制）	直流偏流（需選配）	0-5A (可定制）
基體溫度	500-1300 °C	基體溫度	500-1300 °C	基體溫度	500-1300 °C

主要特點(diǎn)
1.該設(shè)備具有彈性拉絲和配重錘拉絲機(jī)構(gòu)，在最高熱絲溫度（2300°C左右）下，可以使熱絲保持平直不彎曲；
2.配套可編程工藝參數(shù)可保證金剛石薄膜沉積速率的穩(wěn)定性，并可滿足各類高質(zhì)量金剛石薄膜的沉積，包括微米金剛石薄膜、納米金剛石薄膜和微納多層復(fù)合膜等；
3.設(shè)備整體結(jié)構(gòu)經(jīng)過(guò)優(yōu)化設(shè)計(jì)，可滿足不同形狀基體表面金剛石薄膜的均勻沉積，并可用于金剛石薄膜涂層刀具、熱沉片和陶瓷金屬密封環(huán)的批量化生產(chǎn)；
4.鐘罩、底盤、工作臺(tái)和反應(yīng)腔體均采用水冷以避免過(guò)熱，且另裝有安全聯(lián)鎖和保護(hù)裝置，可以確保設(shè)備的安全運(yùn)行。

功能
1.能夠?qū)崿F(xiàn)在復(fù)雜形狀硬質(zhì)合金基體表面自動(dòng)化生產(chǎn)批量均勻的沉積高質(zhì)量金剛石薄膜。
2.真空反應(yīng)腔可調(diào)壓力范圍可以滿足各類金剛石薄膜沉積的要求，即可線性調(diào)節(jié)壓力范圍為1000~10000 Pa。
3.采用水冷工作臺(tái)，工作臺(tái)在反應(yīng)腔打開和設(shè)備運(yùn)行條件下可升降；刀具裝入夾具后，整體方便移動(dòng)而不掉出，放入樣品臺(tái)后保證穩(wěn)定固定。
4.采用鉭絲作為熱源，采用耐高溫?zé)峤z裝夾及張緊裝置，彈簧拉絲機(jī)構(gòu)和配重錘拉絲機(jī)構(gòu)，保證沉積過(guò)程中熱絲平直，不彎曲下垂；熱絲溫度可達(dá)到2200 °C，襯底溫度可測(cè)溫，熱絲工作狀態(tài)異常具有報(bào)警功能。基體與熱絲間的距離可根據(jù)金剛石薄膜沉積要求自由調(diào)整。
5.鐘罩式反應(yīng)腔為夾套式，側(cè)面有觀察窗，反應(yīng)腔夾套及底盤均采用水冷，底盤進(jìn)出氣口確保氣密性并可在沉積過(guò)程中耐高溫。采用高性能真空泵排氣系統(tǒng)，可保證反應(yīng)壓力的穩(wěn)定性，無(wú)氣體外泄。
6.水冷回路包括總進(jìn)水和排水口，各分路供水流暢。
7.帶真空、壓力、水壓、危險(xiǎn)氣體泄露、加熱安全聯(lián)鎖和保護(hù)裝置及相應(yīng)報(bào)警系統(tǒng)，可確保設(shè)備的安全運(yùn)行；爐腔升、降，放氣鍵，采用實(shí)體鍵和虛擬鍵。
8.4路配氣系統(tǒng)，分別為氫氣、甲烷、氬氣和氮?dú)猓捎眠M(jìn)口質(zhì)量流量計(jì)控制流量。（可選配增加氣體流量和液體摻雜流量）
9.氣由鐘罩頂端進(jìn)氣，出氣口在工作臺(tái)下方，確保反應(yīng)腔內(nèi)氣體分布的均勻性。
10. HFCVD沉積設(shè)備中的控制參數(shù)經(jīng)過(guò)相應(yīng)的傳感器測(cè)量，測(cè)量的信號(hào)數(shù)據(jù)進(jìn)行A/D轉(zhuǎn)換和信號(hào)調(diào)理傳輸?shù)焦た貦C(jī)中，對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、顯示、運(yùn)算等步驟，得到檢測(cè)信號(hào)數(shù)據(jù)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)工藝數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的功能，保存數(shù)據(jù)容量達(dá)到1年。

優(yōu)點(diǎn)：

操作簡(jiǎn)單、全自動(dòng)化控制

提供生產(chǎn)夾具、滿足用戶需求

提供配套生產(chǎn)工藝

終身技術(shù)支持

一站式解決配套方案

設(shè)備特點(diǎn)
全自動(dòng)工控界面、支持遠(yuǎn)程操控.一鍵式開關(guān)機(jī)，實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守.自動(dòng)非接觸式遠(yuǎn)紅外測(cè)溫.選用精密直流電源、水路全監(jiān)測(cè).選用高效率直聯(lián)旋片泵.

應(yīng)用
金剛石涂層刀具可以應(yīng)用于高速加工，原因是除了金剛石涂層刀具具有優(yōu)良的機(jī)械性能外，金剛石涂層工藝能夠制備任意復(fù)雜形狀銑刀，用于高速加工如鋁、鈦合金、航空材料和難加工非金屬材料如石墨電極等;